"гост 22025-76*. сплавы кремниевые резистивные. технические условия" (введен в действие постановлением госстандарта ссср от 06.08.1976 n 1900) (ред. от 11.06.1987)

резистивных кремниевых сплавов.
2. Параметры пленок получены при следующих технологических параметрах их получения методом взрывного вакуумно-термического нанесения на установке типа УВН-2М-2:
остаточное давление в камере
-3
в процессе нанесения, Па, не более ..... 7 - 10
испаритель ............................. вольфрамовая лента
толщиной 0,2 - 0,3 мм
температура испарителя, °С ............. 1850 - 1950
метод подачи порошка на
испаритель ............................. непрерывный с помощью
вибропитателя
расстояние от испарителя
до подложки, мм ........................ 240
материалы подложки ..................... ситалл
температура подложки, °С ............... 360 +/- 10
контроль удельного поверхностного
сопротивления в процессе
нанесения пленки ....................... по образцовому
сопротивлению
термостабилизирующая обработка
напыленной пленки ...................... выдержка в вакууме
после нанесения
пленки в течение
30 мин при темпера-
туре 360 +/- 10 °С;
температура подложки в момент
напуска воздуха в камеру, °С ........... 300 +/- 10
При изменении технологических процессов нанесения пленок параметры пленок могут существенно изменяться. Например, температурный коэффициент сопротивления пленок сплава РС-3710 может иметь положительную или отрицательную величину, необратимые изменения поверхностного сопротивления могут быть уменьшены до 0,1 - 0,01%.


Приложение 2
Рекомендуемое
ОБЛАСТЬ ПРИМЕНЕНИЯ И МЕТОДЫ НАНЕСЕНИЯ
РЕЗИСТИВНЫХ КРЕМНИЕВЫХ СПЛАВОВ
-----------T------------------------------------------------------
Сплав марки¦ Область применения и методы нанесения
-----------+------------------------------------------------------
РС-5406 ¦ Для получения низкоомных резистивных слоев с широким
¦диапазоном удельного сопротивления и положительным
¦температурным коэффициентом сопротивления порядка
¦ -5 -1
¦10 град , обладающих коррозионной стойкостью
¦и способностью к адгезии, методом взрывного испарения
¦с вольфрамового испарителя
РС-5402 ¦ Для получения низкоомных резистивных слоев с низким
¦температурным коэффициентом сопротивления, обладающих
¦коррозионной стойкостью и способностью к адгезии,
¦методом взрывного испарения. Возможно получение
¦низкоомных резистивных слоев с отрицательным
¦коэффициентом сопротивления
РС-4800 ¦ Для получения резистивных промежуточных слоев,
¦обладающих высокой износостойкостью, коррозионной
¦стойкостью и способностью к адгезии, методом
¦взрывного испарения с вольфрамового испарителя
РС-4400 ¦ Для получения резистивных слоев, обладающих высокой
¦износостойкостью, коррозионной стойкостью и
¦способностью к адгезии и стабильной работе в течение
¦длительного времени при температуре до 400 °С,
¦методом взрывного испарения с вольфрамового испарителя
РС-3710 ¦ Для получения резистивных слоев тонкопленочных изде-
¦лий электронной техники общего и частного назначения
¦методом взрывного испарения с вольфрамового испарителя
РС-3001 ¦ Для получения резистивных слоев прецизионных
¦тонкопленочных изделий электронной техники частного
¦назначения методом испарения навесок порошка с
¦вольфрамового испарителя
РС-1714 ¦ Для получения резистивных слоев тонкопленочных
¦изделий электронной техники общего назначения методом
¦испарения навесок порошка в сухом виде или спиртовой
¦суспензии с вольфрамового испарителя на установке
¦типа УВН-2М-2
РС-1004 ¦ Для получения высокоомных резистивных слоев
¦тонкопленочных микросхем частного назначения методом
¦взрывного испарения с вольфрамового испарителя
Примечание. Для получения резистивных и промежуточных слоев может быть использована в качестве испарителя углеграфитовая ткань, покрытая пирографитом, но при этом свойства пленок будут несколько отличаться от указанных в справочном Приложении 1. Применяемость свойств таких пленок должна определяться потребителем.
Изготовление резисторов возможно с помощью масочного метода и фотолитографии.